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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-RO-347
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 超高精度電子ビーム描画装置
(Ultra high precision electron beam lithography system)
地域 中国
設置機関 広島大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

エリオニクス社製/ELS-G100
加速電圧:100kV,50kV, 25kV
電子ビームの最小スポットサイズ:ビーム電流1nAにおいて2.0nm以下
試料サイズ:2インチ直径の定型ウエハ
最小線幅:6nm

F-RO-347

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