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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-OS-318
分類 試料作製装置 > 集束イオンビーム(FIB)
膜加工・エッチング > 集束イオンビーム加工
特殊プローブ顕微鏡 > 走査型イオン顕微鏡
設備名 高精細集束イオンビーム装置
(high definition focused ion beam system )
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテクノロジー設備供用拠点 微細加工PF
法澤公寛
仕様

高精細集束イオンビーム装置

ZEISS社製 ORION NanoFab

【特徴】
イオン源にHeガスを採用したことにより、最小ビーム径0.5nmφの分解能を有する超高精細集束イオンビーム装置です。
 【FIB】10nm以下の微細加工が可能です。 
 【ヘリウムイオン顕微鏡(HIM)】(He/0.5nm)中和銃装備のため絶縁体を導電性処理無しに観察可能で、生体観察にも適しています。
【仕様】
イオン源:He / Ne (希ガス)
最小ビーム径:0.5 nm (He),1.9 nm (Ne) 
ビーム電流:0.1~100 pA(He),0.1~50 pA(Ne)
加速電圧:10~40 kV
ET検出器:2次電子
電子中和銃(Flood gun)装備
Gas injection system 蒸着:Pt, SiO2、 Si エッチング:XeF2
試料サイズ: 45mmφ

(FIB装置、HIM、Helium Ion Microscopy、ヘリウムイオン、ネオンイオン)

high definition focused ion beam system

 

F-OS-318

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