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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-OS-317
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 多元DC/RFスパッタ装置
(multi-target DC/RF sputtering system)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテクノロジー設備供用拠点 微細加工PF
柏倉美紀
仕様

キヤノンアネルバ社製  EB1100
 金属成膜用RFスパッタ(Au, Pt, Cr)(金、白金、クロム)
 試料サイズ:max 200mm
 ターゲット基板間距離100~300mm可変
 全自動(排気・搬送・成膜)

(多元DC/RFスパッタ装置)

multi-target DC/RF sputtering system

F-OS-317

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