文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-OS-316
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > ナノインプリント(NIL)
設備名 ナノインプリント装置
(nanoimprint system)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテクノロジー設備供用拠点 微細加工PF
仕様

Obducat社製  Eitre 3
    熱・UVの両方式に対応
    試料サイズ:3inch

UV(波長250~450nm)と熱(室温~200℃)を使って、最大3インチの微細パターンを転写可能な装置。

(ナノインプリント装置)

nanoimprint system

F-OS-316

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