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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-OS-315
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(ECR)
設備名 イオンシャワーエッチング装置
(ECR ion shower system)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテクノロジー設備供用拠点 微細加工PF
仕様

エリオニクス社製   EIS-200ER
    試料サイズ:max 4inch
    ガス:CF4,Ar

ECR ion shower system

F-OS-315

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