文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-OS-314
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 LED描画システム
(LED drawing system)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテクノロジー設備供用拠点 微細加工PF
仕様

ピーエムティー社製  PLS-1010

【特徴】
最高輝度のLEDとDMD(デジタルミラーデバイス)によりパターン生成する最小描画線幅 0.54um の光描画装置です。
CAD作図したデーターから描画を行うので、パターン変更が簡便に行えます。
大型レーザーステージを装備し、1インチ全域を約1時間で描画可能です。(OFPR-5000レジストを用いる場合)
【仕様】
DLPを使用したマスクレス描画装置
光源は365nmのLED光源を使用
描画方式がステップ&スキャン方式のため、 100mm×100mmの範囲を約10分で描画
画分解能・0.5um、接合精度・±0.5um以下、
重ね合わせ精度・±1um以下

試料サイズ:max 30cm角

(マスクレス露光装置、LED描画システム)

LED drawing system

F-OS-314

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