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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-OS-314
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 LED描画システム
(LED drawing system)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテクノロジー設備供用拠点 微細加工PF
仕様

ピーエムティー社製  PLS-1010
  試料サイズ:max 30cm角
  光源:365nm (LED)

DLPを使用したマスクレス描画装置
 描画方式がステップ&スキャン方式のため、 100mm×100mmの範囲を約10分で描画
 画分解能・0.5um、接合精度・±0.5um以下、
                   重ね合わせ精度・±1um以下

(マスクレス露光装置、LED描画システム)

LED drawing system

F-OS-314

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