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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-OS-313
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 マスクアライナー
(mask aligner)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテクノロジー設備供用拠点 微細加工PF
仕様

ミカサ社製  MA-10
    試料サイズ:max 4inch(10cm)
    マスクサイズ:max 8cm角(20cm)
    光源:水銀灯

(マスクアライナー、光露光装置)

mask aligner

F-OS-313

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