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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-OS-312
分類 成膜・膜堆積 > 蒸着(抵抗加熱、電子線)
設備名 ナノ薄膜形成システム (EB蒸着、アークプラズマ蒸着)
(EB physical vapor deposition system)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテクノロジー設備供用拠点 微細加工PF
仕様

アルバック社製 UEP-2000 OT-H/C
    試料サイズ:max 4inch
    EB蒸着ユニット
    アークプラズマユニット
 高真空中で一度に4種類の金属薄膜形成が可能

EB physical vapor deposition system

F-OS-312

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