文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-OS-307
分類 膜加工・エッチング > 集束イオンビーム加工
形状・形態観察、分析 > 走査電子顕微鏡(SEM)
成膜・膜堆積 > 蒸着(抵抗加熱、電子線)
試料作製装置 > 集束イオンビーム(FIB)
走査電子顕微鏡 > 電界放出型走査電子顕微鏡
表面分析装置 > 走査型電子顕微鏡
設備名 集束イオンビーム誘起化学蒸着装置
(focused ion beam induced chemical vapor deposition system)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテクノロジー設備供用拠点 微細加工PF
柏倉美紀
仕様

ZEISS社製 Nvision 40D with NPVE
    ステージサイズ:max 8inch(20cm)
    Pt銃、SiO2銃装備
    FE-SEMユニット, 加速電圧:30keV
       検出器:InLens, SE,Esb
    FIBユニット, 加速電圧:30keV
       最小ビーム径:4nm

Ga+イオンによるFIB加工及び加工時のSEM観察が可能、ダブルビーム

focused ion beam induced chemical vapor deposition system

F-OS-307

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