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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-OS-306
分類 膜加工・エッチング > 集束イオンビーム加工
試料作製装置 > 集束イオンビーム(FIB)
設備名 集束イオンビーム装置
(focused ion beam system )
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテクノロジー設備供用拠点 微細加工PF
仕様

集束イオンビーム装置(FIB装置)

日立ハイテクサイエンス社製 SMI2050
    ステージサイズ:2inch
    C銃, W銃装備, 電子銃:500eV
    加速電圧:30keV
    最小ビーム径:4nm

(FIB加工装置)

focused ion beam system

F-OS-306

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