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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-OS-305
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 電子ビームリソグラフィー装置
(electron beam lithography system)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテクノロジー設備供用拠点 微細加工PF
柏倉美紀
仕様

JEOL社製 JSM6500F with Beam Draw
 フィールドエミッション走査顕微鏡に描画システムを組み合わせた電子ビームリソグラフィー装置
   試料サイズ:2inch
   加速電圧:30keV

(電子ビーム露光装置)

electron beam lithography system

F-OS-305

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