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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-OS-303
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
(ultra high definition electron beam lithography system)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテクノロジー設備供用拠点 微細加工PF
近田和美
仕様

エリオニクス社製  ELS-100T
 1.電子銃エミッター:ZrO/W熱電界放射型
 2.加速電圧:125kV, 100kV, 75kV, 50kV
 3.試料サイズ:6inch
 4.ベクタースキャン方式

(電子ビーム露光装置)

ultra high definition electron beam lithography system

 

F-OS-303

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