文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-203
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 電子線露光装置
(Electron Beam Lithography System)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

日本電子社製  JBX6300FS

  • 加速電圧:25/50/100kV
  • 最小ビーム径:2nm
  • ビーム電流:100pA-2nA
  • 重ね合わせ精度:±9nm
  • 最大試料サイズ:8inchφ
F-NU-203

この設備に関するお問い合わせ先

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。

設置機関Webサイト 設置機関Webサイト   この設備について問い合わせる この設備について問い合わせる(設置機関への問い合わせフォーム)