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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-202
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 マスクアライナ(ナノテック)
(Mask Aligner)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

ナノテック製  LA410

  • 適応マスク:最大  5 inch
  • 適応資料:最大Φ4 inch
  • 有効露光範囲:Φ80 mm以上
F-NU-202

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