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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-201
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
(Both Side Mask Aligner)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

Suss MicroTec AG製  MJB-3
最大ウェーハサイズ:
3 inch(吸引モード)
4 inch(ソフトコンタクト)
照射範囲:3×3 inch
対応基板厚さ:4.5 mm

F-NU-201

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