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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-200
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
(Both Side Mask Aligner)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

Suss MicroTec AG製  MA-6
対応サイズ: Φ2inch - 150 mm,不定形小片:150 mm
アライメント精度:
±0.5 µm(表面アラインメント)、
±0.1 µm(裏面アラインメント)

F-NU-200

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