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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-199
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 フォトリソグラフィ装置
(Mask Aligner)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

共和理研社製  K310P100S
最大2インチ基板、マスク3インチ
最小パタンサイズ  2μm

F-NU-199

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