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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-192
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(ECR)
設備名 ECRスパッタリング装置一式
(Electron Cycrotron Resonance Sputtering System)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

エリオニクス製  EIS-230S

  • ターゲットサイズ:100 mm×80 mm
  • 加速電圧:100 V~3000 V
  • イオンビーム有効径:Φ20 mm
F-NU-192

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