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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-187
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > ナノインプリント(NIL)
設備名 ナノインプリント装置一式
(Nanoimprint Lithography System)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

SCIVAX製  X-300  BVU-ND

  • 形式:熱式,UV式
  • 最大ワークサイズ:Φ150  mm
  • 最大荷重:50  KN
  • 最高仕様温度:250℃,650℃
  • UV機能:波長 365 nm/385 nm
  • 有効照射面積:□100 mm
F-NU-187

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