NanotechJapan YellowPages

ナノテクジャパンは、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として、全国の産学官の利用者に対して、
最先端研究施設及び研究支援能力を分野横断的にかつ最適な組合せで提供できる共用システムを構築し、研究課題解決への貢献を目指して活動しております。

キーワード検索

文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ！　研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名	ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID	F-NU-187
分類	リソグラフィ・露光・描画装置＞ナノインプリント(NIL)
設備名	ナノインプリント装置一式 (Nanoimprint Lithography System)
地域	中部
設置機関	名古屋大学
研究分野	微細加工
担当部署または担当者
仕様	SCIVAX製 X-300 BVU-ND 形式：熱式，UV式最大ワークサイズ：Φ150 mm 最大荷重：50 KN 最高仕様温度：250℃，650℃ UV機能：波長 365 nm／385 nm 有効照射面積：□100 mm

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。