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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-185
分類 成膜・膜堆積 > 光三次元造形
リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
(3-dimentional Laser Lithography System)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

Nanoscribe製  フォトニック・プロフェッショナル

  • 2次元加工精度:100 nm
  • 3次元加工精度:150 nm
  • 対応データ:DXF, STL


KISCO製  SCLEAD3CD2000

  • 設計温度:100 ℃
  • 設計圧力:20 MPa
  • 外寸:900×600×1200 mm
F-NU-185

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