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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-183
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 レーザ描画装置一式
(Laser Lithography System)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

Heidelberg製  mPG101-UV

  • 対応基板:100 ×100 mm
  • 加工精度:1 µm
  • 対応データ:DXF,CIF,BMP
F-NU-183

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