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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-179
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 レーザー描画装置
(Laser Lithography System)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

Heidelberg社製  DWL66  uTAS
MEMSの作製およびSiエッチング評価の際のマスク作製
最小描画サイズ:1.0 μm
直描およびガラスマスク 50 mm x 50 mm

F-NU-179

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