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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-178
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(その他)
形状・形態観察、分析 > 分光(光、電子線、イオン線、プラズマ、磁気、X線)
設備名 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
(Multipurpose Plasma Process System with Radical Monitor)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

基板温度、ラジカル、マルチ分光器、FTIRを用いてエッチングの際に生成する温度、ラジカル密度、励起種、表面分析をIn-situで行う。

  • プロセスガス:H2、N2、Ar、O2、He
  • 基板温度:-10℃-60℃
  • サンプル:Si、4インチウエハ
F-NU-178

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