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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-177
分類 成膜・膜堆積 > CVD(化学気相成長)、有機膜
設備名 60 MHz 励起プラズマCVD装置
(60 MHz Excited Plasma Chemical Vapor Deposition System)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

東京エレクトロン、プラズマCVD装置

  • プロセスガス:シラン、N2、水素、アンモニア、希ガス(Ar、He)
  • サンプル:Si、8インチ
F-NU-177

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