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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-176
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(その他)
設備名 二周波励起プラズマエッチング装置
(Two-frequencies Excitad Plasma Etching System)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

次世代ULSI製造プロセス開発に向けた新規代替ガス評価とその開発

  • プロセスガス:Fluorocarbon、Ar、N2、O2、H2
  • サンプルサイズ:Si  8インチウエハ
F-NU-176

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