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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-167
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(その他)
設備名 ICPエッチング装置
(Inductive Coupled Plasma Etching System)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

アルバック社製  CE-300I

  • 化合物エッチング
  • 対応基板サイズ:最大6インチ基板
  • プロセスガス:Cl2
F-NU-167

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