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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-162
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 レーザー描画装置
(Laser Lithography System)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

Heidelberg Instruments社製  DWL66FS
最小描画サイズ:0.6μm
最大描画サイズ:200mmX200mm
直描およびガラスマスク作製

F-NU-162

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