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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-159
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 露光プロセス装置一式
(Photolithography Processing System)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

ユニオン光学社製  PEM800
両面露光が可能
対応基板サイズ:最大4インチ
最小パターン:3.0μm

F-NU-159

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