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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-156
分類 成膜・膜堆積 > MBE(分子線エピタキシー)
設備名 8元MBE装置
(8-souces Molecular Beam Epitaxy System)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

蒸着源:4cc蒸着源4個、2cc蒸着源2個
試料サイズ30 mm角
高圧電源3台
基板加熱:1000℃
1kV Arイオンエッチング機構
25 kV RHEED表面観察機能

F-NU-156

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