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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NM-091
分類 切削、研磨、接合 > CMP(化学機械研磨)
設備名 CMP研磨装置
(CMP System)
地域 関東
設置機関 物質・材料研究機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

(Logitech社製:PM5)
ブレード径:φ12インチ
ブレード材質:ガラス, 鉄, クロス
最大試料寸法:φ3インチ

F-NM-091

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