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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NM-083
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(RIE)
設備名 酸化膜ドライエッチング装置
(ICP-RIE(F gas) System)
地域 関東
設置機関 物質・材料研究機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

(住友精密工業社製:APS)
誘導結合型プラズマ励起
プロセスガス:CHF3,C2F6,C4F8,SF6,He,O2,Ar
最大試料寸法:φ6インチ

F-NM-083

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