文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NM-080
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(RIE)
設備名 多目的ドライエッチング装置
(CCP-RIE(F gas) System)
地域 関東
設置機関 物質・材料研究機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

(サムコ社製:RIE-200NL)
平行平板型プラズマ励起
プロセスガス:CF4,CHF3,SF6,O2,Ar
最大試料寸法:φ8インチ

F-NM-080

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