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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-303
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 大面積超高速電子線描画装置
(Large Area and Ultra-High Speed Electron Beam Lithography)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

(株)アドバンテスト社製 F7000S
  加速電圧50kV, ビーム電流640A
   解像度:1Xnm, 基板:10mm角~8インチ
   超高速描画

F-KT-303

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