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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-296
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 両面マスクアライナ露光装置
(Double-Sided Mask Aligner)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

ユニオン光学社製 PEM-800

  • ウエハサイズ  チップ~4インチ 
  • フォトマスクサイズ  2.5インチ,5インチ 
  • 露光モード  コンタクト,プロキシミティ
  • アライメント精度  5μm以下 
  • 裏面アライメント  可能 
  • 解像度  3μm  L/S
F-KT-296

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