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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-295
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 移動マスク紫外線露光装置
(Moving Mask UV Lithography)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

大日本科研社製 MUM-0001  

  • 主波長  365nm, 405nm, 436nm
  •     (フィルタにより選択可能) 
  • 露光パワー  39mW/cm2(UV-SN35) 
  • 露光均一性  ±5%
  • マスクサイズ  Φ5インチ 
  • 試料サイズ  Φ4インチ 
  • 試料厚  0.5mm 
  • 三次元加工  移動マスク露光
F-KT-295

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