文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-294
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(ステッパ)
設備名 ステッパ
(Large-Area Irradiating Stepper (g-line Stepper))
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

大日本科研社製 KS-7000
    可変N.A.および厚膜レジストに対応した高深度露光
    解像度1‐2.5μm
    主波長  365nm/365nm+436nm
          (フィルタにより選択可能) 
    露光エリア直径20-50㎜
    縮小倍率  1/2 
    露光範囲  Φ20-Φ50mm 
    総合アライメント精度

F-KT-294

この設備に関するお問い合わせ先

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。

設置機関Webサイト 設置機関Webサイト   この設備について問い合わせる この設備について問い合わせる(設置機関への問い合わせフォーム)