文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-275
分類 形状・形態観察、分析 > 膜厚・段差・粗さ測定
その他材料評価 > 膜厚測定装置(エリプソメーター)
設備名 分光エリプソメーター
(Spectral Ellipsometer)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

大塚電子(株)社製 FE-5000
測定膜厚範囲 0.1nm~1μm 
測定波長範囲 250nm~2000nm 
サンプルサイズ 200mmx 200mm以上 

測定項目
・エリプソパラメータ(cosΔ、tanΨ)
・膜厚
・屈折率
・消衰係数
・絶対反射率

F-KT-275

この設備に関するお問い合わせ先

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。

設置機関Webサイト 設置機関Webサイト   この設備について問い合わせる この設備について問い合わせる(設置機関への問い合わせフォーム)