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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-254
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > ナノインプリント(NIL)
設備名 ナノインプリントシステム
(Nanoimprint Lithography)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

Obducat社製  Eitre3
基板サイズ Φ3(最大)
インプリント方式 STU/熱/UV、全面一括 
最高到達温度(熱インプリント時) 250℃

F-KT-254

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