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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-241
分類 成膜・膜堆積 > CVD(化学気相成長)、有機膜
設備名 プラズマCVD装置
(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition System)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

住友精密工業(株)社製 MPX-CVD

  • 酸化シリコン成膜  基板 Φ6、Φ4インチウェハー
  • プロセスガス Ar  O2  C4F8   液体材料 TEOS  
  • 成膜速度  0.5マイクロメートル/分以上
F-KT-241

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