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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-239
分類 成膜・膜堆積 > 蒸着(抵抗加熱、電子線)
設備名 真空蒸着装置1
(Thermal Evaporator-1)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

(株)サンバック社製  RD-1400

  • チャンバ―内到達圧力:7.0×10-5Pa以下(常圧・無負荷時)
  • 抵抗加熱方式  電極数量 3式(切り替え方式) 基板 Φ4インチおよびΦ6インチウェハ
  • 基板加熱温度 最高350℃
F-KT-239

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