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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-237
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 多元スパッタ装置(仕様B)
(RF Magnetron Multi-Sputter (Type-B))
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

キャノンアネルバ(株)社製 EB1100

  • カソード 非磁性体Φ4"PMC x3基  
  • 基板トレイ Φ4"Siウエハ x 3枚用 Φ6"Siウエハ x 1枚用 ガス供給 Ar,O2  
  • 基板加熱[ランプ加熱]/回転機構付  逆スパッタ可 
  • RF電源1,000kW x 2基(同時スパッタ可)    逆スパッタ可 
  • ターゲット  要相談
F-KT-237

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