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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-234
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > レジスト塗布・現像装置
設備名 有機現像液型レジスト現像装置
(EB-Resist Developer)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

(株)カナメックス社製 KD(EB)-150CBU

  • 基板サイズ Φ4/Φ6"  □30mm/□40mm 
  • 有機系現像、IPAリンス、スピン乾燥機能
  • 現像液吐出ノズル及び溶剤リンス吐出ノズルは変速機能付きスイングノズル
  • 制御方式  シーケンサコントロール
  • 20レシピ30ステップ(回転数,処理時間,スイング速度  etc)
F-KT-234

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