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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-233
分類 膜加工・エッチング > ウエット/ガスエッチング,洗浄
設備名 ウエハスピン洗浄装置
(Wafer Spin Cleaner)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

(株)カナメックス社製 KSC-150CBU
ケミカル洗浄、純水洗浄、スピン乾燥

  • 基板サイズ Φ4/Φ6"  □30mm/□40mm
  • 2流体(純水+N2)ノズルとメガソニックノズルを装備 
  • 制御方式  シーケンサーコントロール
  • 20レシピ30ステップ(回転数、処理時間、スイング速度 etc)
F-KT-233

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