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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-232
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > レジスト塗布・現像装置
設備名 レジスト現像装置
(Photoresist Developer)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

(株)カナメックス社製  KD-150CBU
アルカリ現像,リンス,スピン乾燥機能

  • 基板サイズ Φ4/Φ6"  □30mm/□40mm 
  • 現像液ライン  2系統
  • 変速機能付きスイングノズルと固定式のスプレーノズルを選択可能
  • 制御方式  シーケンサコントロール
  • 20レシピ30ステップ(回転数,処理時間,スイング速度  etc)
F-KT-232

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