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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-231
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > レジスト塗布・現像装置
設備名 スプレーコータ
(Photoresist Spray Coater)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

ウシオ電機(株)社製  USC-2000ST
マイクロマシン/MEMS用スプレーコーター

  • 基板サイズ Φ4~6"(塗布領域  □4") 
  • キャリアガス N2
  • 基板昇温  120℃まで可能
  • レシピ作成により多段階塗布可能
F-KT-231

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