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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-230
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > レジスト塗布・現像装置
設備名 レジスト塗布装置
(Photoresist Spin Coater)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

(株)カナメックス社製  KRC-150CBU

  • 基板サイズ Φ4/Φ6"  □30mm/□40mm 
  • レジスト塗布ライン  2系統
  • レジスト粘度  10~400cp
  • 制御方式  シーケンサコントロール
  • 20レシピ30ステップ(回転数,加減速時間,処理時間,etc)  
  • エッジリンスノズル/バックリンスノズル装備
F-KT-230

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