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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-229
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > レジスト塗布・現像装置
設備名 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
(Advanced Spin Coater)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

ズース・マイロテック社製  DELTA80T3/VP SPEC-KU

  • 基板サイズ Φ6"、Φ4"ウエハ、小片基板
  • レジストディスペンス
        タンク圧送式(粘度:10-400cP)
                     (粘度:800-4000cP)
        シリンジ圧送式(粘度:10-600cP) 
  • ホットプレート(温度:60-250℃)ベーパプライマ(HMDS)付属
F-KT-229

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