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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-227
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 紫外線露光装置
(Contact Mask Aligner)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

ミカサ(株)社製 MA-10型
Φ4インチまでの不定形試料に対応 実験用マスクアライナ
露光光源 UVランプ250W 
マスクサイズ MAX 5インチ×5インチ角 
試料サイズ MAX Φ4インチ 
試料厚 MAX 2mm

F-KT-227

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