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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-226
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 両面マスクアライナー
(Manual High Precision Double-Sided Mask Aligner)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

ズース・マイクロテック社製 MA6 BSA SPEC-KU/3

  • ウェハサイズサイズ 2インチ~150mm  
  • 基板サイズ 不定形小片~150mm角 
  • アライメント精度 ±0.5μm(表面) ±0.1μm(裏面)
  • 露光モード
      プロキシミティ(ギャップ1~300μm)
      バキュームコンタクト
      ソフトコンタクト、ハードコンタクト
      ソフトバキュームコンタクト
F-KT-226

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