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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-225
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 高速マスクレス露光装置
(High Speed Maskless Laser Lithography)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

(株)ナノシステムソリューションズ社製  D-light DL-1000GS/KCH

  • 光源:LED  最小画素:1μm
  • 基板サイズ  Φ100, 125, 150, 3〜5インチ角
  • 基板厚さ  2mm max 
  • グレースケール露光(最大256階調)可能
  • 重ね合わせ精度 ±1μm以内
  • 描画データ入力フォーマット  DEF, GDSII
F-KT-225

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